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產(chǎn)品中心

Product Center

當前位置:首頁產(chǎn)品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD小型濺射儀鄭科探

小型濺射儀鄭科探

產(chǎn)品簡介

小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD 該產(chǎn)品為臺式磁控濺射鍍膜機,能夠在非導電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時間內(nèi)即可形成具有細粒度的均勻薄膜,

產(chǎn)品型號:KT-Z1650PVD
更新時間:2024-03-27
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:2316
詳細介紹在線留言
品牌鄭科探濺射氣體根據(jù)需求通氣
樣品臺尺寸50mm控制方式觸摸屏智能控制
樣品倉尺寸φ160x160mm靶材尺寸50mm
靶材材質(zhì)金 鉑 銅 銀 等價格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領域化工,電氣

小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD


離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現(xiàn)不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。


磁控濺射優(yōu)點

1沉積速率快,沉積效率高,適合工業(yè)生產(chǎn)大規(guī)模應用;

2基片溫度低,適合塑料等不耐高溫的基材鍍膜;

3制備的薄膜純度高、致密性好、薄膜均勻性好、膜基結(jié)合力強;

4可制備金屬、合金、氧化物等薄膜;


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小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD廠家供應技術參數(shù);

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口




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